ข่าว

ทั้งการระเหยและการสปัตเตอร์สามารถสะสมฟิล์มโลหะได้ เหตุใดผลงานภาพยนตร์จึงแตกต่างออกไป?
แม้ว่าทั้งสองกระบวนการจะเรียกว่า "การเคลือบโลหะ" แต่วิธีที...

W—นั่นคือ ทังสเตน—ไม่จำกัดเพียงการสะสมผ่านการสปัตเตอร์แมกนีตรอน

พารามิเตอร์การสปัตเตอร์แบบย้อนกลับ: ที่แรงดันไบอัสเท่าใด ฟิล์มที่ฝากไว้จะหลุดออกไปอีกครั้ง-ฟิล์มที่ฝากไว้แล้วจะหลุดออกไปหรือไม่เมื่อแรงดันไบอัสสูง ...

ผู้ที่ทุ่มเทให้กับ PVD อย่างแท้จริงไม่เคยมุ่งเน้นไปที่ระดับสุญญากาศเพียงอย่างเดียว ความเร็วในการปั๊มเป็นปัจจัยพื้นฐานที่สำคัญ อย่างไรก็ตาม การผลิต ...

ในโครงการ PVD หลายโครงการมักพบปัญหาทั่วไป: บนชิ้นงานเดียวกัน บางพื้นที่มีความหนามาก ในขณะที่บางพื้นที่บางมาก บางครั้งมีความแตกต่างที่ชัดเจนมาก

ในกระบวนการ PVD มีปรากฏการณ์ทั่วไป-}ยาก-ที่อธิบายได้: อุปกรณ์เดียวกันนี้ทำงานได้อย่างสมบูรณ์ทันทีหลังจากทำความสะอาด แต่หลังจากนั้นไม่นาน กระบวนการก...

ในเครื่องเคลือบสูญญากาศแมกนีตรอนสปัตเตอร์ วัสดุที่จะเคลือบเรียกว่าสารตั้งต้น และวัสดุที่ถูกเคลือบเรียกว่าเป้าหมาย ทั้งวัสดุพิมพ์และชิ้นงานอยู่ภายใน...

ในการดำเนินการ PVD (พอลิเมอไรเซชันและการสะสม) ปรากฏการณ์ทั่วไป-ที่อธิบายยาก-เกิดขึ้น: ทันทีหลังจากทำความสะอาดอุปกรณ์ การคายประจุจะมีเสถียรภาพ และกร...

เหตุใดการสกัดแบบละเอียดในเครื่องเคลือบสุญญากาศจึงช้าเกินไป
สาเหตุหลักที่ทำให้การสกัดด้วยความแม่นยำช้าในเครื่องเคลือบสูญญากาศมีดังต่อไปนี้:

เมื่อเผชิญกับสถานการณ์ที่ผลิตภัณฑ์เคลือบหลุดลอกระหว่างการเคลือบสุญญากาศ เป็นเพราะการทำงานที่ไม่เหมาะสมหรือสาเหตุอื่นใด? เราได้รวบรวมปัจจัยหลายประกา...

เครื่องเคลือบสูญญากาศแบบม้วน-ถึง-ม้วน (R2R) เป็นอุปกรณ์การผลิตอัตโนมัติที่สะสมฟิล์มบางอย่างต่อเนื่องและมีประสิทธิภาพบนม้วนวัสดุพิมพ์ที่ยืดหยุ่นในสภ...

เครื่องเคลือบสูญญากาศโดยทั่วไปหมายถึงเทคโนโลยีการสะสมไอทางกายภาพ เครื่องเคลือบประกอบด้วยการสะสมไอทางกายภาพ การสะสมไอสารเคมี และการสะสมไอพลาสมาของสา...